世界のイオン注入装置市場調査、規模、傾向のハイライト(予測2025-2037年)
世界のイオン注入装置市場規模は2024年に2,299億米ドルと推定され、2037年末までに4,612億米ドルを超え、2025―2037年の予測期間中に5.5%のCAGRで成長すると予想されています。2025年には、イオン注入装置の業界規模は2,426億米ドルに達すると見込まれます。
電気および電子機器の採用の増加が、世界のイオン注入装置市場を主に牽引しています。金属研磨やX線装置に使用される高温シリコンカーバイドパワーデバイスは、イオン注入装置を使用して大量生産されています。たとえば、2024年4月、Axcelis Technologies, Inc.は、Purion EXE SiC Power Series ImplanterとPurion H200 SiC Power Series Eval Closureを日本の大手パワーデバイスチップメーカーに出荷したことを発表しました。これらのソリューションは、産業、自動車、エネルギーなどの用途に対応する150mmおよび200mmのシリコンカーバイドパワーデバイスの製造に使用される予定です。
今後数年間、パワーデバイスの継続的な研究開発活動により、イオン注入装置業界に携わる企業に新たなビジネスチャンスがもたらされると予想されます。高エネルギーイオン注入装置の需要の高まりに対応して、主要な市場プレーヤーは製品施設の拡張戦略を採用しています。たとえば、2023年10月、半導体業界を可能にするイオン注入技術のトッププロバイダーであるAxcelis Technologies, Inc.は、日本のトップSiCパワーデバイスチップメーカーが同社のPurion EXE SiC Power SeriesTM 200mm高エネルギー注入機を受け取ったと発表しました。自動車用途向けのSiCパワーデバイスの大量生産は、この方法を使用して行われます。
世界のイオン注入装置市場 : 主な洞察
基準年 |
2024年 |
予測年 |
2025-2037年 |
CAGR |
~5.5% |
基準年市場規模(2024年) |
2299憶米ドル |
予測年市場規模(2037年) |
4612憶米ドル |
地域範囲 |
|
世界のイオン注入装置市場の地域概要
世界のイオン注入装置市場:日本の展望
日本のイオン注入装置市場は、2037年まで安定した成長が見込まれています。半導体製造におけるドーピング操作に不可欠なイオン注入装置は、民生用電子機器、自動車用途、IoTデバイスにおける半導体デバイスの改善に対するニーズが高まるにつれて、ますます需要が高まっています。より正確で効率的な装置の開発など、イオン注入技術の進歩により、パフォーマンスが向上し、半導体製造をはじめとするいくつかの業界での採用が加速しています。人工知能、クラウドコンピューティング、5G技術の発展に牽引されて成長するエレクトロニクス市場により、高度なイオン注入方法を必要とする複雑なデバイスのニーズが高まっています。
イオン注入装置は、材料の改質と特性評価に不可欠であり、研究機関や企業が次世代の材料や製品の作成に取り組むにつれて、市場拡大を促進します。先進運転支援システム(ADAS)や電気自動車(EV)への移行により、特殊な半導体部品のニーズが高まり、自動車用途でのイオン注入の需要が高まっています。新興経済国、特にアジア太平洋地域での半導体製造能力の拡大により、現地メーカーが生産能力の向上を目指しているため、イオン注入装置の需要も高まっています。たとえば、住友電気工業傘下の日新電機グループは、SiCパワーデバイス向けイオン注入装置で、日本で約90%、海外市場で40%の収益シェアを占めています。
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サンプル納品物ショーケース
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過去のデータに基づく予測
会社の収益シェアモデル
地域市場分析
市場傾向分析
市場傾向分析
NA
アジア太平洋市場分析:
アジア太平洋地域は、2037 年までに 45.5% のシェアでイオン注入装置業界をリードすると予想されています。中国、インド、韓国、日本における電子機器の膨大な需要により、今後数年間でイオン注入装置の販売が伸びると予測されています。電気自動車の需要の高まり、EV 充電インフラの拡大、および炭素排出量のネットゼロの目標を達成するための厳しい環境規制も、アジア太平洋地域のイオン注入市場の成長に貢献しています。
たとえば、2021 年 9 月、Applied Materials, Inc. は、トップのシリコンカーバイド (SiC) チップメーカーが 150mm ウェーハ生産から 200mm 生産に切り替えるのに役立つ新製品の発売を発表しました。これにより、ウェーハあたりのダイ出力が約 2 倍になり、世界中で高まる高級電気自動車のパワートレインの需要に対応できます。バッテリー電力をトルクに効果的に変換するため、SiC パワー半導体は需要が高く、車両の性能と航続距離の向上に役立ちます。
中国では、政府の支援、技術の進歩、熟練労働者のおかげで半導体産業が急速に成長しており、イオン注入装置メーカーにとって有利な機会が生まれています。たとえば、中国政府は約1,500億米ドルを投資して半導体販売を拡大するための大胆な措置を講じています。
イオン注入ソリューションは、自動車用パワーデバイスで運用効率を高め、炭素排出量を軽減するために広く使用されています。インドでは急速に拡大している自動車市場がイオン注入技術の販売を促進しています。たとえば、インドブランドエクイティ財団によると、インドのEV販売は2029年までに1,139億米ドルに達すると予測されています。同じ情報源は、インドが自動車部品調達の世界的な拠点として台頭しており、輸出の25%以上を占めていると推定しています。
北米市場分析:
北米市場は、小型化の傾向とスマート家電の需要増加により、予測期間中に急速に拡大すると予想されています。スマートホーム製品の製造における高度なパワーデバイスの適用率の高さにより、この地域では革新的な注入技術に対するニーズが高まっています。
米国は、半導体製造のためのインフラが十分に整備されているため、北米市場の成長を支配しています。さまざまな地域特性が市場の成長に影響を与えており、これらの地理的パターンはイオン注入業界のグローバルな性質を浮き彫りにしています。国内のメーカーは、高度なイオン注入装置を導入し、地域の売上成長に貢献するために、研究開発に多額の投資を行っています。
世界のイオン注入装置市場のセグメンテーション
テクノロジー別(高電流、中電流、高エネルギー)
高電流注入装置セグメントは、2037 年までに収益シェアの 35.5% を獲得すると予測されています。この種のデバイスは、大量のイオンを迅速かつ効果的に供給できるため、大量生産アプリケーションに適しています。高電流注入装置の目標は、短時間で大量のイオンを供給することです。この特性は、高スループットが不可欠な一部の半導体製造アプリケーションで役立ちます。高電流注入装置と比較すると、中電流注入装置は、中程度の量と比較的低いビーム電流でイオンを注入するように作られています。
これらの注入装置は、特定の種類と濃度のイオンを導入することで材料の導電性やその他の特性を変更するドーピングなど、さまざまな目的で半導体製造に使用されます。高エネルギー注入装置と呼ばれる特殊なデバイスは、半導体業界でドーパント原子をシリコン ウェーハに注入するために使用されます。これらのデバイスは、コンピューターやスマートフォンなどの消費者向け電子機器の構成要素である集積回路 (IC) の製造に必要です。
アプリケーション別(半導体、金属仕上げ、その他)
金属仕上げセグメントは、2037 年末までに世界市場で大きなシェアを占めると見込まれます。金属仕上げとは、物体の表面を改質して耐久性と美しさを高め、金属製品の摩耗を減らす技術です。金属仕上げ手順におけるイオン注入の使用の増加は、セグメントの拡大を推進する主な要因であると思われます。航空宇宙、自動車、医療機器などの業界では、硬度、耐摩耗性、耐腐食性などの表面品質を向上させるために金属仕上げでイオン注入装置が使用されていることからわかるように、この技術の使用が増えています。さまざまな金属仕上げアプリケーション向けのイオン注入ソリューションの大手プロバイダーは、Axcelis Technologies や Ion Beam Applications (IBA) などの企業です。さらに、金属仕上げプロセスにおける材料特性の向上の必要性から、イオン注入技術がさまざまな産業分野で使用されているため、このセグメントは拡大すると予想されます。
世界のイオン注入装置市場の詳細な分析には、次のセグメントが含まれます。
セグメント |
サブセグメント |
テクノロジー別 |
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アプリケーション別 |
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世界のイオン注入装置市場:成長要因と課題
世界のイオン注入装置市場の成長要因ー
- 技術の進歩: 製品開発におけるイノベーションは市場の成長を変革する上で大きな役割を果たしており、半導体のますます複雑化する要件に対応できる、より高度で効果的なイオン注入装置に対するニーズが世界的に高まっています。先進技術の統合により、イオン注入プロセスの高精度、スループット、信頼性が高まり、自動化、制御システム、イオンビーム生成が強化されています。さらに、業界は、生産能力を向上させるための最先端技術に対するエンドユーザー企業の需要の高まりによって推進される予定です。
- 半導体製造における用途の増加: コンピューター、スマートフォン、カーエレクトロニクスなどの電子機器の需要が世界中で高まっており、半導体メーカーは生産量を増やして製品の機能を強化するよう圧力を受けています。半導体デバイスの製造に不可欠なステップであるイオン注入により、半導体材料を正確にドーピングして必要な電気特性を得ることができ、売上の成長を促進しています。たとえば、半導体産業協会の分析によると、半導体の世界需要は2024年8月に531億米ドルに達し、2023年8月と比較して20.6%増加しました。
- インターネット利用の増加:インターネットの利用の増加と世界中でのシームレスなアクセスにより、ルーター、スマートフォン、タブレット、コンピューター、ラップトップ、スマートテレビなどの電子機器のサポートに対する需要が高まっています。これらのデバイスは生産サイクルで半導体を多用しており、最終的にはイオン注入技術の需要を押し上げています。たとえば、世界人口の約67.1%がインターネットを使用しており、この割合は今後数年間で急増すると予想されています。
当社の世界のイオン注入装置市場 調査によると、以下はこの市場の課題です。
- 初期コストが高い: イオン注入装置の製造コストとメンテナンスコストが高いため、予算が限られている中小企業にとって大きな課題となります。イオン注入には複雑な技術が関係しており、資格を持った専門家による操作とメンテナンスが必要なため、全体的なコストが高くなります。このため、予算が限られている企業は、特に製造要件に対してよりコスト効率の高い代替手段がある場合、これらの機械への投資を正当化することが困難です。
- 技術的な制限: イオン注入装置ソリューションには、生産プロセスを改善する多くの斬新で最先端の機能が備わっていますが、メーカーは依然として、機械の性能に影響を与える数多くの技術的な障害に直面しています。
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ニュースで
- 2024年9月、Applied Materials India Private Limitedは、半導体装置のイノベーションと教育を促進するための新しいプログラムを開始しました。「Applied Semiconductor Collaboration in Engineering and Technology Initiative (ASCENT)」と呼ばれる年次イベントでは、Applied Indiaのエンジニアと特定の大学の学者が集まり、さまざまな研究トピックにわたって独自のイノベーションを開発するために協力します。
- 2023年7月、China Electronics Technology Group (CETC)は、28nmプロセス製造用のイオン注入装置の開発を発表し、同国の半導体向け前工程装置のさらなる進歩を示しました。CETCによると、Electronics Equipment Groupの子会社は、光路、制御、ソフトウェアなどの重要なモジュールの基礎技術を一貫して進歩させてきました。
- 2024年3月、Axcelis Technologies, Inc.は、日本の大手パワーデバイスチップメーカーが同社の高エネルギーSiC注入装置「Purion EXETM」を受領し、中エネルギーSiC注入装置「Purion H200TM」の評価を無事に終了したことを発表しました。このシステムは、エネルギー、自動車、その他大量の電力を必要とする用途向けの150mmおよび200mmサイズのシリコンカーバイドパワーデバイスの製造に利用されます。
- 2022年10月、Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd.は、新しいイオン注入装置工場の完成を発表しました。国内での5G/6GおよびAI技術の需要の高まりは、同社のイオン注入装置製品の売上を牽引する見込みです。
世界のイオン注入装置市場を支配する注目の企業
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イオン注入装置の分野における革新と競争は、少数の大手企業によって推進されています。大手企業は、コラボレーション、合併、地域拡大などのさまざまなマーケティング戦略を採用して、より広い消費者層にリーチし、高い利益を上げています。他の企業と提携することで、次世代のイオン注入技術を開発し、市場全体の成長に貢献しています。市場のもう 1 つの重要な競合企業は、この分野で豊富な知識を持ち、信頼性と品質で確固たる評判を得ていることで知られています。また、変化する市場の需要を満たすために新しい機能を継続的に追加している研究開発への献身で知られる企業もあります。最先端の技術、信頼性、創造性を活用することで、これらの企業はそれぞれ、イオン注入技術を進歩させる業界に独自の貢献をしています。
イオン注入装置市場の主要企業は次のとおりです。
- Brookhaven Instruments Corporation
- 会社概要
- 事業戦略
- 主要製品提供
- 財務実績推移
- 主要業績評価指標
- リスク分析
- 最近開発
- 地域存在感
- SWOT分析
- Sumitomo Heavy Industries Ltd.
- Nissin Electric Co. Ltd.
- Tokyo Electron Ltd.
- Axcelis Technologies
- Applied Materials Inc.
- Ion Beam Services
- Intevac Inc.
- Kingstone Semiconductor Joint Stock Company Ltd.
- ULVAC Technologies Inc.
- High Voltage Engi
- ALB Materials, Inc
- Eaton Corporation
関連レポート
レポートで回答された主な質問
質問: イオン注入装置市場の世界的な見通しは何ですか?
回答: イオン注入装置市場の規模は、2024年に2,999億米ドルと評価されました。
質問: 今後、世界的にどの地域がイオン注入装置ビジネスにさらなる機会を提供しますか?
回答: アジア太平洋地域のイオン注入装置業界は、2037年までに45.5%のシェアを占めると予想されています。
質問: 日本のイオン注入装置業界はどのくらいの規模ですか?
回答: 日本のイオン注入装置の販売は、予測期間を通じて健全なCAGRで拡大すると予想されています。
質問: 日本のイオン注入装置業界を支配している主要企業は何ですか?
回答: Sumitomo Heavy Industries Ltd.、Nissin Electric Co. Ltd.、Tokyo Electron Ltd.およびAxcelis Technologiesは、日本の主要企業の一部です。
質問: 日本のイオン注入装置市場の最新の傾向/進歩は何ですか?
回答: 日本のイオン注入装置市場の最新動向としては、民生用電子機器、自動車用途、モノのインターネットデバイスにおける半導体デバイスの改善に対するニーズの高まりによる需要が挙げられます。