世界のフォトレジスト市場調査、規模、傾向のハイライト(予測2025-2037年)
世界のフォトレジスト市場規模は2024年に52億米ドルと推定され、2037年末までに103億米ドルを超え、2025―2037年の予測期間中に5.6%のCAGRで成長すると予想されています。2025年には、フォトレジストの業界規模は54億米ドルに達すると見込まれます。
ディスプレイパネルなどの車載用途で使用されるフォトレジストの市場は、自動車業界によって牽引されます。たとえば、2022年には世界中で85.4百万台の自動車が生産され、2021年より5.7%増加しました。このインフォグラフィックは、2021年と2022年に世界の各地域で何台の自動車が製造されたかを示しています。
民生用電子機器の製造に広く使用されているため、フォトレジストの需要は急速に増加すると予想されています。ダイナミックディスプレイ技術に対する要求の高まり、ディスプレイ技術への高い需要、発展途上国における電子製品への需要の高まりは、いずれも市場の成長を牽引する要因です。さらに、世界的なマイクロエレクトロニクスの需要の高まりと、需要を押し上げる半導体の生産量の増加という 2 つの要因により、市場は拡大すると予想されています。
フォトレジスト市場: 主な洞察
基準年 |
2024年 |
予測年 |
2025-2037年 |
CAGR |
5.6% |
基準年市場規模(2024年) |
52億米ドル |
予測年市場規模(2025年) |
54億米ドル |
予測年市場規模(2037年) |
103億米ドル |
地域範囲 |
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フォトレジスト市場の地域概要
フォトレジスト市場 – 日本の展望
日本のフォトレジスト市場は、スクリーンや半導体デバイスの需要の高まりにより、2037年まで安定した成長を記録すると予想されています。マイクロエレクトロニクスデバイスの製造に不可欠なフォトリソグラフィー技術の発展は、この業界の拡大に大きく貢献しています。JSR Corporation、Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.、DuPont、Fujifilm Holdings CorporationとMerck Groupは、世界のフォトレジスト市場をリードする企業の一部です。これらの企業は、幅広い製品ポートフォリオ、戦略的提携、強力な研究開発能力により、優位性を築くことができました。たとえば、2024年にJSR Corporationは、Yamanaka Hutechの全株式を取得し、完全子会社になりました。2024年8月1日に完了したこの取引は、半導体製造プロセスに不可欠なフォトレジスト市場を中心に、半導体材料分野で製品ラインを拡大するというJSRの計画の一部です。東京は製造業と技術革新の主要拠点であり、半導体ビジネスで大きな役割を果たしています。東京エレクトロン、TSMC などの業界大手の存在が、東京の優位性を推進しています。研究開発のための高度なインフラストラクチャ、強力な原材料サプライ チェーン、重要な電子機器製造施設への近さ、半導体部門に対する政府の多大な支援など、すべてが貢献要因です。


サンプル納品物ショーケース

過去のデータに基づく予測
会社の収益シェアモデル
地域市場分析
市場傾向分析
市場傾向分析
北米市場:
北米は、最先端技術の普及、急速に拡大する電子・電気産業、最新の技術革新に対するニーズの高まり、幅広い産業分野にわたる半導体のニーズ、小型電子デバイスのニーズにより、予測期間中にフォトレジスト業界をリードし、シェア46.6%を占めると予想されています。さらに、乗用車や電気自動車の生産増加、反射防止コーティングのニーズの高まり、電気自動車の使用を促進する政府の取り組みにより、市場は拡大すると予想されています。
カナダでは、半導体業界における環境に優しい製造プロセスのニーズと環境規制の強化により、持続可能なフォトレジスト技術の開発に大きな変化が起こります。企業は、世界的な持続可能性の目標に沿って、エネルギー消費と化学廃棄物を最小限に抑えるフォトレジストを開発するために、研究開発に多額の投資を行うと予想されます。
米国では半導体メーカーがチップの小型化、高効率化に取り組んでいるため、特殊な EUV フォトレジストの需要が高まり、極端紫外線 (EUV) リソグラフィーの採用が加速し、チップ製造の精度を高めるフォトレジスト配合の改善につながります。米国は、堅牢な半導体サプライ チェーンの構築に重点を置いた結果、特に EUV 技術を使用する先進ノードにおいて、国内製造能力への投資を増やしてきました。この国のメーカー、サプライヤー、研究者の堅牢なネットワークは、EUV リソグラフィー アプリケーションの限界を押し広げ続けています。
アジア太平洋市場分析:
アジア太平洋地域は、予測期間中に安定した CAGR を経験すると予想されています。この地域の市場は、消費者向け電子機器やスマート ガジェットの成長などの要因により拡大します。
フォトレジスト市場は、韓国、中国、台湾、インド、日本が主流です。これは、この地域での需要を高め、市場拡大を支えるエレクトロニクス セクターの拡大の結果です。例えば、インドのエレクトロニクス産業は急速に成長し、23年度には1,550億米ドルに達しました。携帯電話はエレクトロニクス全生産量の43%を占め、生産量は2017年度の480億米ドルから23年度には1,010億米ドルへとほぼ4倍に増加しました。インドは現在、スマートフォンの99%を国内で生産しており、輸入への依存度を低下させています。
世界最大のエレクトロニクス生産拠点を持つ中国は、台湾、シンガポール、韓国などの上流メーカーと激しい競争を繰り広げています。需要の面では、スマートフォン、OLEDテレビ、タブレットなどの電子製品は、業界の消費者向けエレクトロニクス部門で最も急速に成長しています。中流階級の消費者の可処分所得が増えるにつれて、エレクトロニクスの需要は今後徐々に増加すると予測されています。市場調査は、このことがきっかけとなりました。
インドでは、半導体チップや集積回路(IC)の需要が高く、電気・電子産業が急速に成長し、現地の人口が増加しており、コンピューター、スマートフォン、タブレットなどのさまざまな電子機器の需要が高まっています。
フォトレジスト市場のセグメンテーション
補助タイプ別(反射防止コーティング、リムーバー、現像剤)
反射防止コーティングセグメントは、2037年までに71.8%のシェアを獲得すると予測されています。反射防止コーティングカテゴリーの進歩を推進する要因には、エレクトロニクスおよび自動車産業の拡大、半導体の需要の高まり、革新的なパッケージング技術の採用の増加などがあります。リソグラフィープロセスでは、フォトレジストプロファイルを強化し、光の反射と散乱によって引き起こされる線幅の変動を減らすために反射防止コーティングが使用されます。反射防止コーティングは、プロセス操作ウィンドウを強化し、歩留まりを向上させ、最先端の半導体に手頃な価格のソリューションを提供するために使用されます。
アプリケーション別(半導体およびIC、LCD)
アプリケーションに基づくと、半導体およびICセグメントは2037年末までに最大のシェアを占める可能性があります。半導体およびIC業界は、集積回路、ダイオード、トランジスタなど、さまざまな電子デバイスを生産しているため、おそらく最も重要な業界です。 IC は、抵抗器、コンデンサ、トランジスタなどの何百もの小さな電子部品で構成された小型回路基板で、特定の状況下で伝導する材料で作られた半導体デバイスです。多くの電子機器は集積回路 (IC) を採用しており、電子機器に対する需要の継続的な増加は市場全体の繁栄に貢献すると考えられます。
フォトレジスト市場の詳細な分析には、次のセグメントが含まれます。
セグメント |
サブセグメント |
アプリケーション別 |
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補助タイプ別 |
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タイプ別 |
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最終用途別 |
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フォトレジスト市場:成長要因と課題
フォトレジスト市場の成長要因ー
- AIやIoTなどの将来のイノベーション:人工知能やモノのインターネットなどの新技術の導入により、インテリジェントホームデバイスという新しい製品サブカテゴリが出現しました。電子製品メーカーにとって、AI関連技術の応用は膨大な可能性を生み出しました。AIやIoTなどの技術進歩により、電子機器の採用が加速しています。これらの技術開発はすべて小型PCB設計を必要とするため、フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品の市場拡大に貢献しています。
- 民生用電子機器業界は急速に拡大しています:プリント回路基板(PCB)の主な市場の1つは、民生用電子機器部門です。電気および電子部品は、導電性トラック、通路、または銅板から非導電性基板へのトレース信号を使用するプリント回路基板(PCB)によって機械的にサポートおよび接続されます。PCBの作成に使用される重要なコンポーネントの1つはフォトレジストです。医療機器、LED、家庭用電化製品、産業機器、航空宇宙部品、安全・セキュリティ機器、通信機器など、PCB の用途は数多くありますが、そのほんの一部に過ぎません。
- 材料技術分野の進歩: フォトレジストの世界市場は、材料技術の進歩により引き続き成長すると予想されます。ダイレクト ワイヤ技術を使用する直接入射ビーム リソグラフィーは、半導体、金属、絶縁体、磁性材料など、さまざまなナノ粒子材料に 3 次元 (3D) リソグラフィー パターンを作成する新しいプロセスです。磁気、フォトニクス/プラズモニクス、3D 電子構造、MEMS/NEMS など、幅広い分野でこの技術の恩恵を受けることができます。直接入射ビーム リソグラフィーには、迅速で簡単なパターン形成プロセス、複数の書き込みモード、幅広い用途、ナノ/マイクロ加工における優れた柔軟性と有用性など、多くの利点があります。
当社のフォトレジスト市場 調査によると、以下はこの市場の課題です。
- 環境規制: フォトレジストは光にさらされると、フェノール、クレゾール、ベンゼン、トルエン、キシレン、およびベンゼンをベースとするその他の芳香族化合物、ならびにキャリア流体などの低分子量化合物に分解されます。ベンゼンは環境と人間の健康の両方に悪影響を及ぼすことが知られています。環境への悪影響に対する懸念から、EPA や REACH などの組織によって制定された法律やガイドラインも施行されています。この環境問題は、市場にとって大きな障壁となっています。
- 高コスト: リソグラフィー プロセスで使用されるフォトレジスト材料の費用は、フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場の成長を妨げる主な問題です。コストは、レイアウトとエッジ配置の不正確さ、および IC のロジックの複雑さによって異なります。コストは、エッジ配置の配置と精度によって左右されます。フォトレジストは使用が難しく、より多くの技術を必要とするため、コストが高くなります。一部の国では、税率の上昇によりフォトレジストの価格が上昇する可能性があります。



ニュースで
- 2025 年 2 月、DuPontは、カリフォルニア州サンノゼで 2 月 24 日から 28 日まで開催される 2025 SPIE Advanced Lithography + Patterning カンファレンスに参加することを発表しました。リソグラフィ材料設計における持続可能性の向上と極端紫外線 (EUV) リソグラフィ用フォトレジストの作成を中心とした技術講演を通じて、DuPontは最新の開発成果を紹介します。
- 2025 年 1 月、Lam Research Corporationは、デジタル技術とナノエレクトロニクスの主要研究イノベーション センターである Imec が、2nm 以下の直接印刷 28nm ピッチ バックエンド オブ ライン (BEOL) ロジック向けの新しいドライ フォトレジスト (ドライ レジスト) 技術を検証したと発表しました。ラムが開発した最先端のパターン形成方法であるドライ レジストは、次世代半導体デバイスの作成に不可欠な技術である極端紫外線 (EUV) リソグラフィの歩留まり、生産性、解像度を向上させます。
- 2025年1月、DIC Corporationは、半導体フォトリソグラフィー用フォトレジストに使用されるポリマーを製造・販売するフランスのPCAS S.A.から、ケベック州に拠点を置くPCAS Canada Inc.の全株式を買収したことを発表しました。
- 2024年8月、JSR Corporationは、世界的な電子材料事業の強化と研究開発活動の拡大を目的として、日本に新しいフォトレジスト開発拠点を建設することを決定しました。また、韓国の現地子会社であるJSR Micro Korea Co., Ltd.(JMK)に半導体フォトレジスト工場を建設し、韓国での事業と機能を拡大することを決定しました。
フォトレジスト市場を支配する注目の企業

フォトレジスト市場は、業界の主要企業が製品ラインを拡大するために多額の研究開発投資を行っていることから、引き続き拡大します。重要な市場動向には、新製品のリリース、契約上の合意、合併と買収、投資の増加、他の組織との協力などがあります。市場参加者はまた、世界的なプレゼンスを拡大するためにさまざまな戦略的行動に取り組んでいます。フォトレジスト業界は、競争が激しく拡大する市場環境で成長し繁栄するために、手頃な価格の製品を提供する必要があります。
フォトレジスト市場の主要企業は次のとおりです。:
- DuPont
- 会社概要
- 事業戦略
- 主要製品提供
- 財務実績推移
- 主要業績評価指標
- リスク分析
- 最近開発
- 地域存在感
- SWOT分析
- JSR Corporation
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Sumitomo Chemical Co., Ltd.
- DIC Corporation
- ALLRESIST
- Merck Group
- DOW
- Micro Resist Technology
- DJ MicroLaminates
- LG Chem
- Lam Research Corporation
- AZ Electronic Materials Co., Ltd.
- Everlight Chemical Industrial Co.
目次
関連レポート
レポートで回答された主な質問
質問: フォトレジスト市場の世界的な見通しは何ですか?
回答: フォトレジスト市場の規模は2024年に52億米ドルがありました。
質問: 世界的に、将来フォトレジスト事業にもっとチャンスがあるのはどの地域ですか?
回答: 北米のフォトレジスト業界は2037年まで支配的な市場シェアを維持すると予想されています。
質問: 日本のフォトレジスト業界の規模はどのくらいですか?
回答: 日本のフォトレジスト市場の最新動向には、スクリーンと半導体デバイスのニーズの高まりが含まれます。
質問: 日本のフォトレジスト業界を支配している主要企業はどれですか?
回答: JSR Corporation、Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.、Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.、Sumitomo Chemical Co., Ltd.とDIC Corporationは、日本の主要企業の一部です。
質問: 日本のフォトレジスト市場の最新動向/進歩は何ですか?
回答: DIC Corporationは、半導体フォトリソグラフィー用フォトレジストに使用されるポリマーを製造・販売するフランス企業PCAS S.A.から、ケベック州に拠点を置くPCAS Canada Inc.の全株式を買収したと発表した。